與濕法清洗相比，Harrick等離子清洗機的優勢表現在哪裏？

　　等離子體是物質的一種存在狀態。通常，物質以固體、液體和氣體三種狀態存在，但在某些特殊情況下，它可以以第四種狀態存在，例如太陽表麵的物質和地球大氣電離層中的物質。這種物質的狀態稱為等離子體態，也稱為物質的第四態。

　　等離子體中存在以下物質：高速運動的電子；處於活化狀態的中性原子、分子和原子團（自由基）；電離的原子和分子；分子解離反應過程中產生的紫外線；未反應的分子、原子等，但物質整體保持電中性。
 

　　與濕式清洗相比，Harrick等離子清洗機的優點如下：

　　1、等離子清洗後，清洗後的物體非常幹燥，無需幹燥即可送入下道工序。

　　2、不使用三氯乙烯ODS有害溶劑，清洗後不會產生有害汙染物。是一種有利於環境保護的綠色清潔方式。

　　3、可以深入到物體的微孔和凹陷處，完成清潔任務，無需考慮被清潔物體形狀的影響。

　　4、Harrick等離子清洗機整個清洗過程可在幾分鍾內完成，因此具有效率高的特點。

　　5、等離子清洗的技術特點是可以處理不同的基材而不管處理對象。無論是金屬、半導體、氧化物還是高分子材料（如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環氧樹脂等聚合物）都可以很好地進行等離子體處理。因此，它特別適用於耐熱和耐溶劑的基材。此外，可以選擇性地清潔材料的整體、局部或複雜結構。

　　6、在清洗去汙的同時，還可以改變材料本身的表麵性質。如提高表麵的潤濕性，提高薄膜的附著力等。

　　7、自動化程度高；Harrick等離子清洗機采用高精度控製裝置，時間控製精度非常高；正確的等離子清洗不會在表麵產生損傷層，保證表麵質量；由於是在真空中進行，不汙染環境，保證清潔後的表麵不會受到二次汙染。